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  • 大财配资 盛美上海首台PECVD SiCN设备顺利出机

    4月27日,盛美上海宣布,其首台等离子体增强化学气相沉积(PECVD)碳氮化硅(SiCN)设备已正式出机。该设备旨在支持55纳米及以下高端IC工艺的后段金属互联....

    大财配资 来源:广发E配 日期:09-22
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